ALDシステムは、熱またはエネルギー強化ALDのための多目的な研究蒸着ツールです。原子層堆積法（ALD）は、気相化学プロセスの連続使用に基づく薄膜堆積技術であり、化学気相堆積法のサブクラスである。ALD反応の大半は、前駆体（「反応体」とも呼ばれる）と呼ばれる2種類の化学物質を使用する。これらの前駆体は、材料の表面と一度に一つずつ、逐次的かつ自己限定的に反応する。薄膜は、別々の前駆物質に繰り返し暴露されることによって、ゆっくりと堆積する。ALDは、半導体デバイスを製造する上で重要なプロセスであり、ナノ材料を合成するための一連のツールの一部でもある。
QYResearchが発行した最新市場調査レポート「ALDシステム―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2024～2030」によると、ALDシステムの世界市場規模は2029年までに32.4億米ドルに達し、予測期間中の年平均成長率は8.2％になると予測されている。
ALDシステムの世界市場規模（百万米ドル）、2018-2029年
QYResearchの調査に基づく、または調査を含みます： ALDシステムの世界市場レポート 2023-2029
世界のALDシステム上位16社ランキングと市場シェア（2021年データに基づく、継続更新中）
QYResearchの調査に基づく、または調査を含みます： ALDシステムの世界市場レポート 2023-2029
ALDシステムの世界の主要メーカーには、CN1、Solaytec、Oxford Instruments、NCD、Forge Nano、Ideal Deposition、Beneq、NAURA、NAURA、Beneqなどが含まれる。2022年、世界の上位5社の売上高シェアは約73.0%であった。
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